1可见性作为射线问题
闭卷重建可见性作为射线问题的空间、公式、中间量与退化边界。
计算机图形学与渲染实验 · 小纸条
选一章打印。双面打印（按长边翻页）后沿虚线剪开，每张卡片正面题目、背面答案。
第 1 页 · 正面（题目）
2阴影贴图两遍算法
闭卷重建阴影贴图两遍算法的空间、公式、中间量与退化边界。
3阴影痤疮与Peter Panning
闭卷重建阴影痤疮与Peter Panning的空间、公式、中间量与退化边界。
4PCF与滤波边界
闭卷重建PCF与滤波边界的空间、公式、中间量与退化边界。
5级联阴影与大场景精度
闭卷重建级联阴影与大场景精度的空间、公式、中间量与退化边界。
6面积光源与软阴影
闭卷重建面积光源与软阴影的空间、公式、中间量与退化边界。
7实验：射线遮挡与PCF
闭卷重建实验：射线遮挡与PCF的空间、公式、中间量与退化边界。
第 1 页 · 背面（答案）
机制：先从光源渲染深度，再把相机可见点投到光空间比较深度；实验：手算世界点到shadow map UV与深度并执行比较；边界：光源视锥外、UV边界和NDC约定处理错误会整片错误阴影。
机制：一点到光源可见当开放线段内没有更近交点，需用epsilon避开自交但不能跨过薄片；实验：从表面点向点光源发shadow ray并限制tMax；边界：无限射线会把光源背后的物体误判为遮挡，过大epsilon会造成漏光。
机制：百分比更近滤波对多个深度比较结果求平均，得到可控软边但不是物理面积光积分；实验：对3×3深度邻域计算PCF可见比例；边界：先平均深度再比较与先比较再平均不等价，会产生错误遮挡。
机制：离散深度、斜面和精度导致自阴影；常量/斜率bias缓解但过大会让阴影脱离接触；实验：改变bias观察自阴影、漏光和接触缝的三方权衡；边界：bias不是越大越安全，前后面选择与法线偏移也会改变薄物体结果。
机制：面积光不同位置产生不同可见性，平均样本形成半影；遮挡物与接收面关系决定半影宽度；实验：对矩形光源取固定样本并估计可见比例；边界：少样本会噪声，简单PCSS近似也需明确搜索和滤波尺度。
机制：相机视锥按深度切成多级，每级使用不同光空间分辨率并在边界混合；实验：根据近远平面构造线性/对数混合切分并估算texel世界尺寸；边界：级联跳变、稳定化与分辨率是权衡，远级不能期待近级细节。
机制：实现有限shadow ray最近交点和离散PCF比较，输出可见度；实验：覆盖无遮挡、遮挡在光前、遮挡在光后和自交epsilon测试；边界：几何单位变化时epsilon要随尺度调整，测试必须固定边界等号规则。